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光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。
光刻機是干什么用的朝陽(yáng)旭日重工？如字面意思，就是把我們想要的芯片，再通過(guò)設計師設計出規格之后用光學(xué)技術(shù)刻在晶圓上，其實(shí)和洗相片的意思有點(diǎn)接近，用光學(xué)技術(shù)把各種各樣形式的電路刻在晶圓從而使之后的工藝順著(zhù)刻出來(lái)的樣子繼續加工。一片晶元以12寸為例大概可以生產(chǎn)成品幾百到幾千不等的小芯片，而不是要將手機那么小的芯片一片一片刻出來(lái)的，如果真這樣那效率太慢了光刻機是芯片產(chǎn)業(yè)中最昂貴且技術(shù)難度最高的機臺，好幾億一臺都是隨便的。因為它是整塊芯片的主題和框架。
光刻機的工作原理是要經(jīng)過(guò)硅片表面清洗、烘干、旋涂光刻膠、干燥、對準曝光、去膠、清洗、轉移等眾多工序完成的。經(jīng)過(guò)一次光刻的芯片還可以繼續涂膠、曝光。越復雜的芯片，線(xiàn)路圖的層數就越多，而且也需要更精密的曝光控制過(guò)程。
光刻機是怎么工作的
光刻機一般是用在激光上，下面以在玻璃上刻蝕圖形為基礎，介紹光刻機的工作原理：
1、清洗玻璃并烘干，首先準備一塊玻璃，玻璃的大小可以根據需要裁減，然后將玻璃清洗干凈烘干，備用。
2、在玻璃上涂覆光刻膠，光刻膠有正性和負性之分。
3、干燥，采用固化干燥機讓玻璃揮發(fā)液體成分，干燥的目的是為了玻璃進(jìn)一步加工的需要。
4、曝光，曝光的方式有很多種，比如激光直寫(xiě)、通過(guò)掩模板同時(shí)曝光等都可以。
5、去膠，去膠的方法也很多，比如放在刻蝕劑中，用正性膠的話(huà)，被光照到的地方就會(huì )被溶解，沒(méi)有光照到的地方光刻膠保留下來(lái)，到這里就已經(jīng)在光刻膠上刻蝕出了所需圖形。
6、清洗，去膠結束后，對玻璃進(jìn)行清洗。
7、轉移，轉移的方法也有很多，可以采取離子束轟擊，光刻膠和玻璃同時(shí)被轟擊等等，光刻膠被轟擊完后，暴露出來(lái)的玻璃也被轟擊，就把光刻膠上的圖形轉移到玻璃上。這樣就完成了。
